石墨烯陶瓷分散設備,石墨烯陶瓷膠體磨 ,德國SGN 石墨烯氧化鋯陶瓷研磨分散機是過陶瓷膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。
石墨烯陶瓷分散設備,石墨烯陶瓷膠體磨 ,德國SGN 石墨烯氧化鋯陶瓷研磨分散機是過陶瓷膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。
石墨烯(Graphene)是一種二維碳材料,是單層石墨烯、雙層石墨烯和少層石墨烯的統(tǒng)稱。石墨烯一直被認為是假設性的結構,無法單獨穩(wěn)定存在,直至2004年,英國曼徹斯特大學物理學家安德烈·海姆(Andre Geim)和康斯坦丁·諾沃肖洛夫(Konstantin Novoselov),成功地在實驗中從石墨中分離出石墨烯,而證實它可以單獨存在,兩人也因“在二維石墨烯材料的開創(chuàng)性實驗",共同獲得2010年諾貝爾物理學獎。并且,石墨烯在自然界也有產出,它體現為高能物理狀態(tài)下的圈量子的粒子態(tài)相。
當前石墨烯產業(yè)化存在五大難點:石墨烯制備成本較高,良品率有待提升;主流制備方法各有優(yōu)劣,工藝不穩(wěn)定,技術有待改善;前期研發(fā)投入資金需求量大;下游需求方向尚不十分明確,需求藍海難估;產業(yè)鏈延伸需要各環(huán)節(jié)配套,與下游需求對接尚待時日。
德國SGN 石墨烯氧化鋯陶瓷研磨分散機的分散效果
影響分散乳化結果的因素有以下幾點
1 分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)
2 分散頭的剪切速率 (越大,效果越好)
3 分散頭的齒形結構(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)
4 物料在分散墻體的停留時間,乳化分散時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)
5 循環(huán)次數(越多,效果越好,到設備的期限,就不能再好)
線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
– 轉子的線速率
– 在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。
SGN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉子直徑)X 轉速 RPM / 60
高的轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的。根據一些行業(yè)特殊要求,思峻公司在GRS2000系列的基礎上又開發(fā)出GRX2000超高速剪切乳化機機。其剪切速率可以超過200.00 rpm,轉子的速度可以達到66m/s
陶瓷分散設備的參數
陶瓷膠體磨 | 流量 | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/輸出連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
GMGD 2000/4 | 50 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMGD 2000/5 | 200 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMGD 2000/10 | 500 | 4,200 | 23 | 22 | DN50/DN50 |
GMGD 2000/20 | 1500 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMGD 2000/30 | 3000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMGD 2000/50 | 6000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調節(jié)到zui大允許量的10%。 |
1 表中上限處理量是指介質為“水"的測定數據。
2 處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產品的要求。
石墨烯陶瓷分散設備,石墨烯溶液
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